政策

2025.09.24

图为被选为2025年度韩国科学技术院(KAIST)优秀毕业生的巴基斯坦留学生Syed Sheraz Ali。图片来源:KAIST

图为被选为2025年度韩国科学技术院(KAIST)优秀毕业生的巴基斯坦留学生Syed Sheraz Ali。图片来源:KAIST



      韩宣网9月24日电(记者高贤井)韩国法务部23日表示,为吸引科学技术领域的优秀人才,将新设“K-STAR(Korea-Science & Technology Advanced human-Resources)签证通道”。

      “K-STAR签证通道”是帮助科学技术外国人才在韩稳定工作与生活的一项制度。

      此前,只有韩国科学技术院(KAIST)、大邱庆北科学技术院(DGIST)、蔚山科学技术院(UNIST)、光州科学技术院(GIST)和韩国科学技术联合研究生院(UST)等5个科学技术院校的毕业生才能享受永久居留权、入籍快速通道等政策。

      但是通过此次修订政策,受惠对象扩大到了约20所普通大学的留学生。在“K-STAR签证通道”参与大学中,被推荐为优秀人才的外国毕业生无需就业条件,可直接申请长期居住(F-2)签证。为取得永久居留权所需的在韩居留时间标准也从原本的6年减至3年。

      法务部长官郑成湖表示,为使外国人才能够在韩永久居住和入籍,我们将与各大学建立紧密的合作体系。

      hjkoh@korea.kr